一、設備簡介:
化學氣相沉積設備(簡稱CVD涂層設備),主要通過高溫(1000℃)真空狀態下多種氣體或液體蒸氣在工具表面反應沉積,形成單層或多層涂層物質。從而提升工具的硬質和使用壽命,確保工具在使用過程中的高能和穩定。設備包括:1.供氣部分;2.控制部分;3.反應部分;4.尾氣排放部分;5.冷卻部分。
二、選型參考:
三、設備參數:
額定功率
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頻率
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額定電壓
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3×400VAC
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反應器腔室的數量
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2
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反應器腔室的直徑
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530
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反應器腔室的高度
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1600mm
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反應器腔室的可用面積
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1101
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空間要求
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6.3m×5.9m×5.1m
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最大環境溫度
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40℃
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最低環境溫度
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5℃
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最高允許大氣溫度
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30-90%
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安裝機房
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最小凈空高度
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按照區域的空間要求
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最大容量
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加熱爐區域1-4
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10KW
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加熱爐區域5
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15KW
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入口熔斷器
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150A
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設備重量
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7T(僅供參考)
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