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        詳細介紹
        • 產品名稱: 化學涂層爐
        • 產品編號: 001
        • 上架時間: 2017-07-07
        • 瀏覽次數: 100

        一、設備簡介:

          化學氣相沉積設備(簡稱CVD涂層設備),主要通過高溫(1000℃)真空狀態下多種氣體或液體蒸氣在工具表面反應沉積,形成單層或多層涂層物質。從而提升工具的硬質和使用壽命,確保工具在使用過程中的高能和穩定。設備包括:1.供氣部分;2.控制部分;3.反應部分;4.尾氣排放部分;5.冷卻部分。

        二、選型參考:

        三、設備參數:

        額定功率

         

        頻率

         

        額定電壓

        3×400VAC

        反應器腔室的數量

        2

        反應器腔室的直徑

        530

        反應器腔室的高度

        1600mm

        反應器腔室的可用面積

        1101

        空間要求

        6.3m×5.9m×5.1m

        最大環境溫度

        40

        最低環境溫度

        5

        最高允許大氣溫度

        30-90%

        安裝機房

         

        最小凈空高度

         

        按照區域的空間要求

         

        最大容量

        加熱爐區域1-4

        10KW

        加熱爐區域5

        15KW

        入口熔斷器

        150A

        設備重量

        7T(僅供參考)


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